[发明专利]一种自挥发盐釉料的施釉方法有效
| 申请号： | 201010534621.X | 申请日： | 2010-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN102040397A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 刘虎;李月明;沈宗洋;廖润华;王竹梅;洪燕 | 申请（专利权）人： | 景德镇陶瓷学院 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人： | 李玉峰 |
| 地址： | 333000 *** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种自挥发盐釉料的施釉方法，将盐釉料放置在容器中，与陶瓷坯体一起进窑炉烧制；在烧制过程中，盐釉料自行挥发形成盐釉蒸汽，并覆盖在陶瓷坯体表面经堆积冷却后形成釉层。本发明通过挥发覆盖施釉，流动性小，可最大程度地保留陶瓷制品表面的细节和装饰的精致度。本发明在制作过程中，可以免去传统工艺首先施釉的步骤，大大较低了生产成本，提高了生产效率。同时也可以与传统施釉工艺相结合，对陶瓷坯体进行局部施盐釉，从而大大提高了适用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 挥发 釉料 方法 | ||
【主权项】：
一种自挥发盐釉料的施釉方法，其特征在于包括以下步骤：a.制作陶瓷坯体(2)；b.将盐釉料(1)装入容器(3)，与陶瓷坯体(2)一起摆放进窑炉；装有盐釉料(1)的容器(3)均匀分布在陶瓷坯体(2)之间；c.在1100～1300℃温度下烧成，盐釉料(1)在烧制过程中自行挥发出蒸汽并覆盖在陶瓷坯体(2)表面；d.覆盖的盐釉经冷却后在陶瓷坯体(2)表面形成透明釉层。
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