[发明专利]一种单晶炉及抑制单晶炉的软轴摆动的方法有效
申请号: | 201010536014.7 | 申请日: | 2010-11-08 |
公开(公告)号: | CN101967677A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 梁仁和;周世增 | 申请(专利权)人: | 北京京仪世纪电子股份有限公司 |
主分类号: | C30B15/20 | 分类号: | C30B15/20;C30B15/30 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李兆岭;魏晓波 |
地址: | 100079 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种单晶炉和抑制单晶炉的软轴摆动的方法。公开的单晶炉包括炉体、提拉装置、坩埚和软轴;还包括控制器、位置监测器和位于炉体外的至少一个磁场发生器;软轴的上端与坩埚形成直流导电回路;控制器输入端与位置监测器相连,位置监测器获取软轴的位置信息;控制器的输出端与磁场发生器相连,或/和,与所述的直流导电回路相连。与现有技术中被动地对软轴施加作用力不同,本发明提供的技术方案不依赖于软轴实际的摆动幅度,可以主动地对软轴施加作用力,从而更好地抑制软轴的摆动;更重要地是,利用本发明的提供的单晶炉还能够对软轴下端的单晶直接施加作用力,从而能够从根本上降低软轴摆动对单晶体生成的不利影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 单晶炉 抑制 摆动 方法 | ||
【主权项】:
一种单晶炉,包括炉体、提拉装置、坩埚和软轴,所述坩埚位于炉体形成的炉腔内,所述软轴上端与提拉装置相连,下端伸入坩埚中;其特征在于,还包括控制器、位置监测器和位于炉体外的至少一个磁场发生器;所述软轴的上端与坩埚形成直流导电回路;所述控制器的输入端与所述位置监测器相连,所述位置监测器获取软轴的位置信息;所述控制器的输出端与磁场发生器相连,或/和,与所述的直流导电回路相连。
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