[发明专利]电子轰击离子源无机质谱分析中谱线干扰的校正方法有效
申请号: | 201010536994.0 | 申请日: | 2010-11-05 |
公开(公告)号: | CN102033104A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 王海舟;沈学静;杨植岗;王蓬;胡少成;马红权;杨倩倩 | 申请(专利权)人: | 钢铁研究总院 |
主分类号: | G01N27/68 | 分类号: | G01N27/68 |
代理公司: | 北京华谊知识产权代理有限公司 11207 | 代理人: | 刘月娥 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种电子轰击离子源无机质谱分析中谱线干扰的校正方法,属于无机质谱定量分析技术领域。待测物中组分X,分析谱线为离子x;另有组分S有1种离子产物six对x产生干扰,而另一种离子s不干扰。配制N个系列S含量已知、不含X的标准样品,引入质谱分析,建立谱线six与s质谱信号Isix和Is间的数学关系即干扰校准公式;再用质谱分析一系列不含S的X的标准样品,建立X的校准曲线;测定待测物时,将样品引入质谱,获得Is并代入干扰校准公式,得到干扰信号Isix。从x谱线的总信号I中扣除干扰Isix,代入X的校准公式,即可得组分X的准确含量。采用本发明扣除干扰不增加分析成本和时间,能很好解决因干扰导致的定量分析结果不准确的问题。 | ||
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【主权项】:
一种电子轰击离子源无机质谱分析中谱线干扰的校正方法,其特征在于,校正步骤为:(1)某待测物质的待测组分X,在EI源的作用下产生质荷比不同的离子1到5种,其中待测成分X唯一选择的质谱分析对象是离子x,分析谱线为x;待测物所含另一种组分S,有一种离子产物,记为six,由于质荷比同离子x相同,或者质谱仪的分辨能力不能区分其差别,从而在x分析谱线位置产生干扰;组分S还有另一种离子产物,记为s,不受质谱干扰;(2.)选用3到11个组分S含量已知的、不含组分X且所含其他成分不会在离子x分析谱线处产生干扰的组分S的系列标准物质或样品,系列标准物质或样品简称标样;当待测物是混合气体样品,应选用背景同待测物相同的气体标样;当待测物是固体样品,应选用基体同待测物相同的固体标样;标样系列的含量范围应覆盖待测物中组分S的含量;(3)打开质谱仪,设置和优化测量参数,把步骤(2)中标样分别引入质谱进行检测,获取由各标样产生的离子six和离子s的质谱峰信号,并对质谱信号进行扣除背景、剔除异常、放大、积分处理;以处理后的离子s的质谱信号,记为Is,为横坐标,处理后six离子的质谱信号,记为Isix,为纵坐标,绘图获得组分S对组分X质谱干扰的校准曲线及公式,由此获得如下函数关系,表示为:ISix=f(IS) (1)当组分S同时也为待测组分,则以Is为纵坐标,以系列标样中组分S的含量CS为横坐标,绘图获得组分S的校准曲线及公式;(4)选用3到11个组分X含量已知、不含干扰组分S且所含其它组分不会在x分析谱峰处产生干扰的X的系列标样;在同步骤(3)相同的条件下,分别引入质谱仪分析;获取各标样中x离子的质谱信号,并对质谱信号进行扣除背景、剔除异常、放大、积分处理;以处理后的质谱信号,记为Ix,为纵坐标,以标样系列中X物质的含量,记为Cx为横坐标,绘图获得X物质的校准曲线及公式,表示为:Ix=f(Cx) (2)(5)在同步骤(3)和(4)相同的条件下,将步骤(1)中同时含有待测组分X和干扰组分S的待测物引入质谱仪分析;在x分析谱峰位置检测到的总信号,记为I,其中包含了x离子自身的信号,记为Ix,也包含各干扰组分S在该位置产生的干扰信号及质谱背景,满足如下方程:I=IB+Ix+Isix (3)Ix=I‑IB‑Isix (4)其中IB为分析条件下不加样品时的x分析谱峰位置的背景信号,质谱检测过程中由软件自动计算得到;将采集并处理后的信号I、干扰组分S的Is代入方程(1)得到的Isix以及IB代入方程(4),得到组分X产生的有效质谱信号Ix;(6)利用方程(2),可计算在有其他组分干扰存在的情况下,组分X的浓度Cx:Cx=f(‑1)[I‑IB‑f(IS)] (5)在质谱应用软件中加入干扰扣除模块,同信号采集和数据处理功能结合,实现质谱干扰数学校正过程的自动化。
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