[发明专利]石斛兰花期调控方法有效

专利信息
申请号: 201010537690.6 申请日: 2010-11-10
公开(公告)号: CN102124876A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 杨铁顺 申请(专利权)人: 天津滨海国际花卉科技园区股份有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01C21/00
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 代理人: 赵庆
地址: 300300 *** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明属于花卉栽培技术领域。石斛兰花期调控的方法,其特征是:在预期开花前60~65天开始,在营养生长期施用花多多10号肥料的600~1000倍液,在生殖生长期施用美国瑞莱开花专用肥10-30-20的600~1000倍液,营养生长和生殖生长期间,除花芽处理时期以外,温度为28℃,湿度为70%,正常光照8h;花芽处理期:当花芽第1次发出时,将花芽抹去,然后每天用500~1000mg/L的赤霉素将花芽滴湿,来催促二次花芽长出,此时的温度调控到22~25℃,湿度调控到70%-80%,给予光照8h,用40%遮阳网遮阴。经调控后的石斛兰开花株约有80%的花如期开放,达到良好的观赏效果。
搜索关键词: 石斛 花期 调控 方法
【主权项】:
石斛兰花期调控方法,其特征是:在预期开花前60~65天开始,在营养生长期施用花多多10号肥料的600~1000倍液,在生殖生长期施用美国瑞莱开花专用肥10‑30‑20的600~1000倍液,营养生长和生殖生长期间,除花芽处理时期以外,温度为28℃,湿度为70%,正常光照8h;花芽处理期:当花芽第1次发出时,将花芽抹去,然后每天用500~1000mg/L的赤霉素将花芽滴湿,来催促二次花芽长出,此时的温度调控到22~25℃,湿度调控到70%‑80%,给予光照8h,用40%遮阳网遮阴。
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