[发明专利]光致抗蚀剂组合物无效

专利信息
申请号: 201010541116.8 申请日: 2010-11-05
公开(公告)号: CN102053495A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 市川幸司;桥本和彦;夏政焕 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 程金山
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物包含:树脂,该树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元,其中R1表示C1-C6含氟烷基,R2表示氢原子或甲基,并且A表示C1-C10二价饱和烃基,并且该树脂不溶或难溶于碱性水溶液,但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液;以及由式(II)表示的酸生成剂,其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,X1表示单键或C1-C17二价饱和烃基,在所述C1-C17二价饱和烃基中,一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,Y1表示可以具有一个或多个取代基的C1-C36脂族烃基,等,并且Z+表示有机抗衡阳离子。
搜索关键词: 光致抗蚀剂 组合
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂组合物,所述光致抗蚀剂组合物包含:树脂,所述树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元:其中R1表示C1-C6含氟烷基,R2表示氢原子或甲基,并且A表示C1-C10二价饱和烃基,并且所述树脂不溶或难溶于碱性水溶液,但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液;以及由式(II)表示的酸生成剂:其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基,X1表示单键或C1-C17二价饱和烃基,在所述C1-C17二价饱和烃基中,一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,Y1表示可以具有一个或多个取代基的C1-C36脂族烃基,可以具有一个或多个取代基的C3-C36饱和环状烃基,或可以具有一个或多个取代基的C6-C36芳族烃基,并且在所述脂族烃基和所述饱和环状烃基中的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替,并且Z+表示有机抗衡阳离子。
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