[发明专利]一种氧肟酸型高分子螯合剂的离子静态去除率测定方法无效
| 申请号： | 201010542117.4 | 申请日： | 2010-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102466637A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 袁俊海 | 申请（专利权）人： | 袁俊海 |
| 主分类号： | G01N21/75 | 分类号： | G01N21/75;G01N21/31;G01J3/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氧肟酸型高分子螯合剂的离子静态去除率测定方法。该氧肟酸型高分子螯合剂的离子静态去除率测定方法包括：取氧肟酸型高分子螯合剂置于反应容器中；加入浓度为C的金属离子溶液；搅拌后取上层澄清溶液；测定其经处理后的金属离子浓度C1；根据C和C1计算出离子静态去除率Q等步骤。本发明能快速测得氧肟酸型高分子螯合剂的离子静态去除率，且测量精度高，测量步骤简单，降低了测量成本，为氧肟酸型聚丙烯酰胺的研究提供了很好的数据支持。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧肟酸型 高分子 螯合剂 离子 静态 去除 测定 方法 | ||
【主权项】：
一种氧肟酸型高分子螯合剂的离子静态去除率测定方法，其特征在于，包括以下步骤：(a)取氧肟酸型高分子螯合剂置于反应容器中；(b)加入浓度为C的金属离子溶液；(c)搅拌一段时间，取上层澄清溶液；(d)测定其经处理后的金属离子浓度C1；(e)根据C和C1计算出离子静态去除率Q。
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