[发明专利]一种线宽均匀性的测试方法有效

专利信息
申请号: 201010545771.0 申请日: 2010-11-16
公开(公告)号: CN102466982A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 黄玮;段天利;邹永祥;胡骏;张辰明;刘志成 申请(专利权)人: 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种线宽均匀性的测试方法,包括以下步骤:在光刻版上形成线宽设计值为目标值A1、A2、......、Ak的k个线宽测试图形,同时形成至少k个修正图形,每一个线宽测试图形至少有一个相对应的修正图形,修正图形的线宽设计值略大于或小于相对应的线宽测试图形的目标值;遍测线宽测试图形和修正图形在光刻版上的线宽实际值;在每一个线宽测试图形以及相对应的修正图形中,挑选出线宽实际值与目标值最接近的图形,作为对应图形;将对应图形光刻到圆片上;测试圆片上的对应图形的线宽,作为评价线宽均匀性的数据。本发明消除了制版误差,得到的线宽均匀性数据能够真实反映光刻机镜头性能。
搜索关键词: 一种 均匀 测试 方法
【主权项】:
一种线宽均匀性的测试方法,包括以下步骤:在光刻版上形成线宽设计值为目标值A1、A2、......、Ak的k个线宽测试图形,所述k为自然数,同时形成至少k个修正图形,每一个所述线宽测试图形至少有一个相对应的所述修正图形,所述修正图形的线宽设计值大于或小于相对应的所述线宽测试图形的目标值;从所述线宽测试图形和所述修正图形中挑选出线宽实际值与目标值最接近的图形作为对应图形;使用光刻机将所述对应图形光刻到圆片上;测试圆片上的所述对应图形的线宽,作为评价线宽均匀性的数据。
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