[发明专利]能够降低活塞与气缸之间余隙的活塞环结构及其加工方法无效

专利信息
申请号: 201010547084.2 申请日: 2010-11-09
公开(公告)号: CN102734125A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 梁嘉麟 申请(专利权)人: 梁嘉麟
主分类号: F04B39/00 分类号: F04B39/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种能够降低活塞与气缸之间余隙的活塞环结构及其加工方法,有:定位在活塞(2)圆周外围环槽(3)上的活塞环(1),其特征在于:一.上述活塞环(1)呈缺角矩形断面(4-a)的形状,该缺角的断面形状为三角形,整个活塞环(1)是设置在它的环状平面与活塞(2)顶部齐平的位置上的;二.上述活塞环(1)呈V型断面(4-b)或半V型断面(4-c)的形状,它们的张口是向着圆心的,整个活塞环(1)是设置在它的环状平面与活塞(2)顶部齐平的位置上的。其加工方法如下:将塞环(1)套进活塞(2)的环槽(3)上,然后将该活塞(2)的上顶部与该活塞环(1)的上顶部一起进行平面研磨。它适合于需要消除活塞(2)与汽缸(5)之间余隙容积的任何现有的活塞往复式机型。
搜索关键词: 能够 降低 活塞 气缸 之间 活塞环 结构 及其 加工 方法
【主权项】:
一种能够降低活塞与气缸之间余隙的活塞环结构,有:定位在活塞(2)圆周外围环槽(3)上的活塞环(1),其特征在于以下的A或B或C:A.上述活塞环(1)呈缺角矩形断面(4‑a)的形状,该缺角的断面形状为三角形,该缺角位置位于活塞环(1)断面的内环侧上顶部,整个活塞环(1)是设置在它的环状平面与活塞(2)顶部齐平的位置上的,并且,该活塞环(1)是通过与上述缺角矩形断面(4‑a)相吻合的环槽(3)来实施定位的;B.上述活塞环(1)呈V型断面(4‑b)的形状,该V型断面(4‑b)的张口是向着圆心的,该V型断面(4‑b)张口的二个斜坡与活塞(2)的接触面为滑动配合,整个活塞环(1)是设置在它的环状平面与活塞(2)顶部齐平的位置上的,该活塞环(1)是通过与上述V型断面(4‑b)相吻合的环槽(3)来实施定位的,该V型断面(4‑b)另一个环状端部的平面与活塞(2)的环槽(3)平面接触的间隙应该大于该V型断面(4‑b)与活塞(2)上述坡度接触的间隙;C.上述活塞环(1)呈半V型断面(4‑c)的形状,该半V型断面(4‑c)的张口是向着圆心的,该半V型断面(4‑c)张口的一侧与活塞(2)顶部的坡度接触面为滑动配合,并使得整个活塞环(1)的一个环状端部平面正好与活塞(2)顶部平面齐平,该活塞环(1)是通过与上述半V型断面(4‑c)相吻合的环槽(3)来实施定位的,该半V型断面(4‑c)另一个环状端部的平面与活塞(2)的环槽(3)平面接触的间隙应该大于该半V型断面(4)与活塞(2)上述坡度接触的间隙。
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