[发明专利]图案化雾面转印膜结构无效
| 申请号： | 201010549859.X | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102009543A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 韩久康 | 申请（专利权）人： | 琨诘电子（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/44 | 分类号： | B41M5/44;B44C1/165 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;王寿刚 |
| 地址： | 215321 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括：一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖基底薄膜层的上表面的局部区域，具有光滑的上表面；一离型层，设置于基底薄膜层及该遮蔽层的上表面；一硬化膜层，设置于离型层的上表面；一饰纹层，设置于硬化膜层的上表面；以及一黏着膜层，设置于饰纹层的上表面。本发明的基底薄膜层的上方具有凹凸粗糙上表面，在基底薄膜层上方形成光面图案，因此邻接于基底薄膜层及遮蔽层的硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，上方并分布有光面图案，在转印膜应用时达到图案化雾面效果，满足多样化的产品外观设计需求。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 化雾面转印 膜结构 | ||
【主权项】：
图案化雾面转印膜结构，其特征在于包括：一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一遮蔽层，覆盖于该基底薄膜层的上表面的局部区域，该遮蔽层具有一光滑的上表面，以便于该基底薄膜层的上表面形成一光面图案；一离型层，设置于该基底薄膜层以及该遮蔽层的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。
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