[发明专利]偏峰定位光谱分析方法有效

专利信息
申请号: 201010550548.5 申请日: 2010-11-19
公开(公告)号: CN102023135A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 李帆;赵海燏;叶晓英;耿晓颖 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 陈宏林
地址: 1000*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明是一种偏峰定位光谱分析方法,其特点是:采用光谱仪进行化学元素含量分析时,在需要确定分析谱线的谱峰位置时,如果不受到其他因素的影响,则应在谱线最高点确定峰位,谱线的最高点为中心波长为λ0的分析谱线的测量点;如果受到其他因素的影响,导致在该谱线峰值位置受到干扰,则不在谱线最高点确定峰位,而在谱峰侧面不受谱线干扰的斜坡处确定峰位,如果这样,首先分别准备一个分析元素的溶液和一个干扰元素的溶液,然后用这两个溶液分别在分析元素分析谱线处进行谱线扫描,则得到分析谱线谱图和干扰谱线谱图,并将两者叠加显示,然后在分析谱线侧面选择一个不受干扰谱线干扰的点或段作为分析峰位/分析谱段,测定所有溶液时均选择此峰位/峰段进行分析。本发明技术方案的优点是能够直接、快速、准确的校正谱线重叠干扰。
搜索关键词: 定位 光谱分析 方法
【主权项】:
一种偏峰定位光谱分析方法,其特征在于:该方法的步骤是:(1)配制分析元素溶液确定待测样品溶液中分析元素的含量范围后,配制一个单一分析元素溶液,溶液中分析元素的质量体积浓度与待测样品溶液中分析元素的质量体积浓度一致;(2)配制干扰元素溶液确定待测样品溶液中干扰元素的含量范围后,配制一个单一干扰元素溶液,溶液中干扰元素的质量体积浓度与待测样品溶液中干扰元素的质量体积浓度一致;(3)制作单一分析元素溶液和单一干扰元素溶液的光谱叠加图在光谱仪上,在分析元素的的波长λ0处,分别对单一分析元素溶液和单一干扰元素溶液进行谱线扫描,分别得到单一分析元素溶液和单一干扰元素溶液的谱线谱图(1、2),并将两份谱线谱图在分析元素的分析波长λ0处同时显示,得到两者的光谱叠加图;(4)确定待测样品溶液的分析峰值和分析谱段当单一干扰元素溶液的谱线在分析波长λ0处的净强度值大于单一分析元素溶液的谱线在分析波长λ0处的净强度值5%时,则认为干扰谱线对分析谱线有光谱干扰,将单一干扰元素溶液的谱线净强度值计数最小且与分析波长λ0最接近的波长点(3)至单一干扰元素溶液干扰谱线净强度值达到单一分析元素溶液的分析谱线峰值的5%所对应的波长点(4)之间选择任意一点或段,作为分析峰位和分析谱段;(5)对待测样品溶液进行光谱分析在光谱仪上,用分析峰位或分析谱段测定待测样品溶液的谱线谱图,确定其中分析元素的含量。
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