[发明专利]化学气相沉积的装置和方法

摘要

提供一种化学气相沉积装置，其具有在所述化学气相沉积装置的顶部上的等离子体发生器，以将工艺反应气体分解成自由基并将该自由基通过喷头供给到反应室内。根据本发明的一个示例性实施方案，所述化学气相沉积装置包括：容纳晶片的反应室，在所述反应室中通过第一反应气体和第二反应气体的反应在所述晶片上进行化学气相沉积；等离子体室，在所述等离子体室中所述第二反应气体通过等离子体发生器被转变成等离子态；和安装在所述反应室顶部上的喷头，其将从所述等离子体室引入的所述第一反应气体和所述第二反应气体在不使所述第一反应气体和所述第二反应气体相互接触的情况下排放到所述反应室。

主权项

一种化学气相沉积装置，包括：容纳晶片的反应室，在所述反应室中通过第一反应气体和第二反应气体的反应在所述晶片上进行化学气相沉积；等离子体室，在所述等离子体室中通过等离子体发生器使所述第二反应气体转变成等离子态；和安装在所述反应室顶部上的喷头，在不使所述第一反应气体和所述第二反应气体相互接触的情况下所述喷头将所述第一反应气体和从所述等离子体室引入的所述第二反应气体排放到所述反应室。