[发明专利]化学放大型抗蚀剂组合物和图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201010552383.5 申请日: 2010-05-28
公开(公告)号: CN101982808A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 增永惠一;渡边聪;田中启顺;土门大将 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 任宗华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种包含聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物,所述聚合物包含具有足够极性以赋予聚合物粘附力的单元和在酸作用下变为碱溶性的酸不稳定单元。所述聚合物包含具有通式(1)的重复单元,其中R1为H、F、CH3或CF3,Rf为H、F、CF3或CF2CF3,A是二价的烃基,R2、R3、R4为烷基、烯基、氧代烷基、芳基、芳烷基或芳氧代烷基。包含芳环结构的重复单元的存在量为≥60mol%,而具有通式(1)的重复单元的存在量<5mol%。
搜索关键词: 化学 大型 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种包含聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物,所述聚合物包含分子内具有足够极性以赋予聚合物粘附力的单元和被酸不稳定基团保护且在酸作用下变为碱溶性的单元,所述聚合物进一步包含具有通式(1)的重复单元:其中R1各自独立地为氢、氟、甲基或三氟甲基,Rf各自独立地为氢、氟、三氟甲基或五氟乙基,所有的Rf不能同时为氢,A是二价的C1-C10烃基,其中一些或所有的氢原子可被氟原子取代,或者其中一些亚甲基可被氧替代,R2、R3和R4各自独立地为取代或未取代的直链或支链C1-C10烷基、烯基或氧代烷基,或是取代或未取代的C6-C18芳基、芳烷基或芳氧代烷基,或者R2、R3和R4中的至少两个与硫原子键合在一起形成环,其中,包含芳环结构的重复单元的存在量为至少60mol%且具有通式(1)的重复单元的存在量小于5mol%,基于聚合物总重复单元计。
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