[发明专利]含纳米硅聚酰胺紫外正性光刻胶及其成膜树脂

摘要

一种含纳米硅聚酰胺紫外正性光刻胶及其成膜树脂，该成膜树脂由芳香酰氯、芳香胺和含纳米硅组成单元聚合而成，采用该成膜树脂制得含纳米硅聚酰胺紫外正性光刻胶，其中成膜树脂的重量份数为8～30份，溶剂的重量份数为70～90份。本发明制得的光刻胶具有良好的耐高温性能、机械性能、电学性能、粘附性能和抗刻蚀性能。

主权项

1.一种成膜树脂，其特征在于：主要由以下两个步骤制得：第一步：由芳香酰氯、含纳米硅组成单元和芳香胺三种共聚单体在溶剂中进行共聚反应得到含纳米硅聚酰胺预聚物，所述三种共聚单体的质量百分比如下：芳香酰氯 20%～70%；含纳米硅组成单元1%～10%；芳香胺 20%～70%；所述芳香酰氯是符合化学通式（）和化学通式（）的化合物中的至少一种：（）；（）；式中，R₁、R₂各自独立地代表H或OH；R₃为、、、、、或；所述含纳米硅组成单元是符合化学通式（）的至少一种化合物：（）；式中，至少一个取代基R_f符合通式（）所示，剩下的取代基R_f是碳原子数为1～10的烷基、、、或；（）；式中，R₄代表碳原子数为1～10的脂肪烃基、或者是分子链上含有1～3个硅原子的碳原子数为1～10的脂肪烃基；所述芳香胺是符合化学通式（）、化学通式（）和化学通式（）的化合物中的至少一种：（）；（）；（）；式中，R₅、R₆各自独立地代表、、、、、或；第二步：将光敏剂偶联到第一步制得的含纳米硅聚酰胺预聚物得到含纳米硅光敏性聚酰胺成膜树脂，所述光敏剂为符合结构式（）或结构式（）的重氮萘醌酰氯，所述光敏剂与含纳米硅聚酰胺预聚物的质量百分比如下：光敏剂0.5%～15%；含纳米硅聚酰胺预聚物85%～99.5%；（）；（）。