[发明专利]镀膜件及其制作方法无效
| 申请号： | 201010555145.X | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102477532A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;彭立全 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件及该镀膜件的制作方法。该镀膜件包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。该镀膜件的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空溅镀法在该基体的表面溅镀抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，其包括一基体及形成于基体表面的抗指纹层，其特征在于：该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。
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