[发明专利]底盘设置多出气口的多晶硅还原炉无效

专利信息
申请号: 201010558470.1 申请日: 2010-11-24
公开(公告)号: CN102001660A 公开(公告)日: 2011-04-06
发明(设计)人: 黄国强;段长春;李雪;刘春江 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C01B33/03 分类号: C01B33/03
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 王丽
地址: 300072 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开的底盘设置多出气口的多晶硅还原炉,包括炉体、夹套、底盘、支座、多对电极、硅芯、混合气进气管及进气喷嘴、多个出气口及出气管、冷却系统和观察视镜等。其特征在于还原炉底盘上设置有多个出气口,出气口分圈均匀布置于底盘上。由于炉内底盘上设置有多个出气口,使得向下折返的气体和反应生成的尾气能够充满整个炉内空间,均匀的向下流动至底盘出气口排出,这样可保证整个炉内气体分布均匀。特别是在大容量还原炉内,底盘设置多出气口时,炉内气体分布均匀的优势更为显著。炉内气体分布均匀,可加快硅在硅棒表面的沉积速度,并且得到的棒状多晶硅产品上下粗细均匀,既提高了产品产量又提高了产品质量。
搜索关键词: 底盘 设置 气口 多晶 还原
【主权项】:
一种底盘设置多出气口的多晶硅还原炉,包括炉体,夹套,底盘,支座,多对电极,带有石墨头的硅芯,混合气进气管及进气喷嘴,出气口及出气管,冷却系统和观察视镜;其特征是还原炉底盘上设置多个出气口(10),出气口分圈均匀设置在底盘上。
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