[发明专利]一种清洗硅材料的方法无效
申请号: | 201010559200.2 | 申请日: | 2010-11-24 |
公开(公告)号: | CN102092716A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 钱利峰;王永甫;鲁学伟 | 申请(专利权)人: | 浙江芯能光伏科技有限公司 |
主分类号: | C01B33/021 | 分类号: | C01B33/021 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波;逯长明 |
地址: | 314400 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种清洗硅材料的方法,包括以下步骤:a)将硅材料在稀氢氟酸或稀盐酸溶液中浸泡;b)将浸泡过的硅材料用高纯水清洗干净;c)将硅材料干燥。本发明提供的清洗硅材料的方法不使用硝酸,硅材料不受到损耗,只利用酸的腐蚀性能将硅材料表面的杂质腐蚀除去。在一种优选方式中使用稀氢氟酸对硅材料进行清洗,能够有效地清洗硅材料表面的杂质,反应平稳,基本不产生热量,不发生氧化反应,避免因氧化而对硅材料产生污染,提高了硅材料的质量;稀氢氟酸不与硅发生反应,降低了硅材料的损耗率;酸用量较少。 | ||
搜索关键词: | 一种 清洗 材料 方法 | ||
【主权项】:
一种清洗硅材料的方法,其特征在于,包括以下步骤:a)将硅材料在稀氢氟酸或稀盐酸溶液中浸泡;b)将浸泡过的硅材料用高纯水清洗干净;c)将硅材料干燥。
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