[发明专利]一种高温材料法向光谱发射率测量系统有效
| 申请号： | 201010562419.8 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102042993A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 符泰然;谈鹏;曹阳;赵桓 | 申请（专利权）人： | 清华大学;中国航天科工集团第三总体设计部 |
| 主分类号： | G01N25/00 | 分类号： | G01N25/00;G01J3/28 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100084 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高温材料法向光谱发射率测量系统，包括：真空加热单元，其上部设置测试样品，对测试样品下表面进行辐射加热；水冷套筒单元，套设在测试样品上部，将测试样品上表面置于恒温冷环境中；光纤传感器测量单元，设置在测试样品上方，测量测试样品上表面的法向光谱辐射强度；数据采集与分析单元，与光纤传感器测量单元连接，依据所测得的法向光谱辐射强度，通过多光谱反演算法，计算其法向光谱发射率。本发明实现了0.4μm～1.7μm光谱范围、600℃～1500℃温度范围的材料法向光谱发射率测量，测量无需在线辐射定标，技术实现简单、准确可靠，克服了现有光谱发射率装置价格昂贵、构造复杂、技术实施难度较大等应用的局限性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高温 材料 光谱 发射 测量 系统 | ||
【主权项】：
一种高温材料法向光谱发射率测量系统，其特征在于，包括：真空加热单元，其上部设置测试样品(7)，对测试样品(7)下表面进行辐射加热；水冷套筒单元，套设在所述测试样品(7)上部，将测试样品(7)上表面置于恒温冷环境中；光纤传感器测量单元，设置在所述测试样品(7)上方，测量测试样品(7)上表面的法向光谱辐射强度；数据采集与分析单元，与所述光纤传感器测量单元连接，依据所测得的所述测试样品(7)上表面的法向光谱辐射强度，通过多光谱反演算法，计算其法向光谱发射率。
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