[发明专利]成像设备无效
申请号: | 201010566849.7 | 申请日: | 2005-12-15 |
公开(公告)号: | CN102064070A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 伊藤靖浩 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01J29/02 | 分类号: | H01J29/02;H01J29/86;H01J31/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 康建忠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种能够抑制由在显示板中产生的前-后温差引起的电子束的入射位置的波动,从而能够实现不受这种温差影响的高质量显示的平板成像设备。在其中前板和背板由隔离物支承的成像设备中,从前板到背板的热传导路径中的热阻分割比被抑制为0.5或更小,以降低由隔离物的高度方向上的温度分布引起的隔离物表面上的电阻分布,从而抑制从电子发射装置到阳极的电子束的入射位置的波动。 | ||
搜索关键词: | 成像 设备 | ||
【主权项】:
一种成像设备,它包括:具有多个电子发射装置和向电子发射装置施加电压的布线的背板;与背板相对,并具有能够借助从电子发射装置发射的电子束通过辐射发光的发光部件和阳极电极的前板;设置在背板和前板的周边部分之间,并且与背板和前板一起构成真空容器的框架部件;和布置成与背板和前板接触,并被设置在由电流场限定的电位的隔离物,其中由下述一般等式(2)表示的隔离物热阻分割比Ψ0和隔离物电阻分割比E满足关系0<Ψ0<E<1:Ψ0=Rhsp/(Rhcfp+Rhsp+Rhcrp) (2)其中:Rhcfp:隔离物和前板之间的热阻[m2K/W];Rhsp:隔离物的热阻[m2K/W];Rhcrp:隔离物和背板之间的热阻[m2K/W];E=Resp/(Recfp+Resp+Recrp) (4)其中:Recfp:隔离物和前板之间的电阻[Ω];Resp:隔离物的电阻[Ω];和Recrp:隔离物和背板之间的电阻[Ω]。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010566849.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高宽棚架绿藤快速覆盖栽培装置
- 下一篇:铜互连结构及其形成方法