[发明专利]负型光阻组合物及图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201010568163.1 申请日: 2010-11-29
公开(公告)号: CN102096321A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 田中启顺;增永惠一;土门大将;渡边聪 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G03F7/004;G03F7/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 菅兴成;吴小瑛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是一种负型光阻组合物,其至少含有:(A)为碱可溶性且可由于酸的作用而变为碱不溶性的基础聚合物;(B)产酸剂;及(C)碱性成分;其特征在于:所述基础聚合物至少含有一高分子化合物,该高分子化合物含有由下述通式(1)及下述通式(2)所表示的重复单元,且重量平均分子量为1,000~10,000。根据本发明,可提供一种在形成微细图案时不易产生桥接,且能够赋予高解像性的负型光阻组合物及使用此负型光阻组合物的图案形成方法,
搜索关键词: 负型光阻 组合 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种负型光阻组合物,其至少含有:(A)为碱可溶性且可由于酸的作用而变为碱不溶性的基础聚合物;(B)产酸剂;及(C)碱性成分;其特征在于:所述基础聚合物至少含有一高分子化合物,该高分子化合物含有由下述通式(1)及下述通式(2)所表示的重复单元,且重量平均分子量为1,000~10,000,通式中,R1表示氢原子或甲基,s表示0或1;t表示0~2的整数;R2表示氢原子或碳数为1~6的烷基;B1、B2分别独立地表示单键、或链中间可含有醚键的碳数为1~10的伸烷基;a表示0~3的整数,b表示1~3的整数。
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