[发明专利]分配器设备及其控制方法有效
| 申请号： | 201010568348.2 | 申请日： | 2010-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102078846A | 公开（公告）日： | 2011-06-01 |
| 发明（设计）人： | 崔锺权;崔文基;黄世翰;丁玄晟 | 申请（专利权）人： | AP系统股份有限公司 |
| 主分类号： | B05B13/04 | 分类号： | B05B13/04;B05B15/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种分配器设备及其控制方法。该分配器设备包含：排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，用于测量所述排放单元的喷嘴与所述衬底之间的间隙；支撑单元，其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面；滑动单元，安置于所述支撑单元与所述排放单元之间，以通过所述排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；以及头块，其包括位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。因此，当排放单元的喷嘴与衬底碰撞时，连接到排放单元的滑动部件通过所述反作用而操作。排放单元通过所述滑动部件的操作而抬升，且排放单元的移动被位移检测单元检测。 | ||
| 搜索关键词： | 分配器 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种分配器设备，其中包括：排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，其用于测量所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底之间的间隙；支撑单元，其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面；滑动单元，其安置于所述支撑单元与所述排放单元之间，以通过所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；以及头块，其包含位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AP系统股份有限公司，未经AP系统股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010568348.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
