[发明专利]填充环及流量控制系统有效
| 申请号： | 201010570363.0 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102022401A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 李凌峰;杨晨光;魏欣 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创电子股份有限公司 |
| 主分类号： | F15D1/00 | 分类号： | F15D1/00;G05D7/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人： | 郑立明;赵镇勇 |
| 地址： | 100016 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种填充环及流量控制系统，填充环包括由大圆柱体和小圆柱体构成的阶梯状圆柱体，阶梯状圆柱体内设有轴向通孔，大圆柱体的外端轴向切十字槽。流量控制系统包括主通道，主通道内设有分流器，主通道的后端装有阀座，填充环的大圆柱体装到主通道内，小圆柱体装到阀座的通道内。填充环结构简单、使用方便，并能有效的减少气体扰动。 | ||
| 搜索关键词： | 填充 流量 控制系统 | ||
【主权项】：
一种填充环，其特征在于，包括由大圆柱体和小圆柱体构成的阶梯状圆柱体，所述阶梯状圆柱体内设有轴向通孔，所述大圆柱体的外端轴向切十字槽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京七星华创电子股份有限公司，未经北京七星华创电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010570363.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
