[发明专利]曝光装置和曝光方法无效
| 申请号： | 201010570701.0 | 申请日： | 2010-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN102063020A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 三宅健;高木俊博 | 申请（专利权）人： | 三荣技研股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘建 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光装置，其中基板(1)支撑于基板支撑构件(2)上。在投影光学系统(3)和基板(1)之间，设置刚性的光透过性构件(4)。光透过性构件(4)具有与基板(1)的曝光面(1a)面对的平面(4a)。平面(4a)按照与投影光学系统(3)的成像面一致的方式定位。设置驱动机构(5)，其用于使基板支撑构件(2)移动，以便相对光透过性构件(4)的平面(4a)，使曝光面(1a)紧贴和离开。从而在不采用对焦功能的情况下，以良好的精度，在表面平坦性差的基板的曝光面上，进行所需的成像。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其用于对具有感光层的基板的曝光面照射光而在上述曝光面上形成图案，其特征在于，包括：基板支撑构件，其用于支撑上述基板；光源；投影光学系统，其用于将来自上述光源的光照射到上述曝光面；光透过性构件，其形成为刚性的光透过性构件，具有与上述曝光面相面对的平面，并按照上述平面与上述投影光学系统的成像面一致的方式配置；驱动机构，其用于使上述基板支撑构件移动，以便使上述曝光面相对于上述光透过性构件的上述平面紧贴和离开。
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