[发明专利]光电转换元件和光电转换元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201010571325.7 申请日: 2007-04-17
公开(公告)号: CN102082189A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 笹川慎也;长谷川真也;高桥秀和;荒尾达也 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/10;H01L27/146
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 柯广华;卢江
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一个目的是通过逐步进行光电转换层的蚀刻,提供侧表面带不同锥角的光电转换元件。与pn光敏二极管相比,pin光敏二极管具有高响应速度,但具有大的暗电流缺陷。暗电流的一个原因被认为是通过在蚀刻中生成并沉积在光电转换层侧表面上的蚀刻残余的导电。通过形成一种结构,其中常规具有均匀表面的侧表面具有两个不同锥形,以便光电转换层具有不在同一平面的p层侧表面和n层侧表面,降低了光电转换元件的泄露电流。
搜索关键词: 光电 转换 元件 制造 方法
【主权项】:
一种光电转换元件,包括:导电层;以及在所述导电层上的光电转换层,所述光电转换层包括第一半导体层、第二半导体层和第三半导体层的堆叠层,其中在所述导电层上的所述第一半导体层包含一种导电类型的杂质元素,其中在所述第一半导体层上形成所述第二半导体层,其中在所述第二半导体层上的所述第三半导体层包含与所述第一半导体层中杂质元素相反导电类型的杂质元素,其中所述光电转换层的侧表面包括带第一锥角的表面和带第二锥角的表面,其中带所述第一锥角的所述表面包括所述第一半导体层的侧表面和所述第二半导体层的侧表面,其中带所述第二锥角的所述表面包括所述第三半导体层的侧表面,以及其中带所述第一锥角的所述表面和带所述第二锥角的所述表面具有不同的锥角。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010571325.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top