[发明专利]光刻机掩模预对准装置及方法有效
| 申请号： | 201010572160.5 | 申请日： | 2010-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102486622A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 张品祥;郭勇;朱立荣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻机的掩模预对准装置，包括：调制信号电源，照明模块，掩模，掩模预对准标记、四象限传感器和信号处理模块组成，所述调制信号电源提供两种不同频率的电流或电压使照明模块出射两种不同频率的光斑，所述两种不同频率的光斑被所述四象限传感器同时接收。本发明简化了现有技术中复杂的预对准装置结构，节省了光刻机内部布局空间，实现了光刻机的整体性能的提升，降低了生产制造和集成成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机掩模预 对准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻机的掩模预对准装置，包括：调制信号电源，照明模块，掩模，掩模预对准标记、四象限传感器和信号处理模块组成，其特征在于所述调制信号电源提供两种不同频率的电流或电压使照明模块出射两种不同频率的光斑，所述两种不同频率的光斑经过设置在所述掩模上的所述掩模预对准标记后，被所述四象限传感器接收。
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