[发明专利]低压键合制作微纳米流控系统的方法无效
| 申请号： | 201010573026.7 | 申请日： | 2010-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN102060262A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 王旭迪;金建;李鑫;汤启升;郑正龙 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人： | 何梅生 |
| 地址： | 230009 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低压键合制作微纳米流控系统的方法，其特征是首先以玻璃片为基底，制得具有光栅图形的KMPR母版，并制得到PDMS软印章；再利用PDMS软印章制得后续制作纳米通道的光栅纳米尺寸结构Si基底；另取PET片制得具有双层SU-8光刻胶的PET片材；再将光栅纳米尺寸结构Si基底和具有双层SU-8光刻胶的PET片材经低压键合制作微纳米流控系统。本发明方法制作的通道的均匀性好，不易出现堵塞，成功率高；本发明方法操作灵活，制造成本低，利于大面积生产。 | ||
| 搜索关键词： | 低压 制作 纳米 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种低压键合制作微纳米流控系统的方法，其特征是首先以玻璃片为基底，制得具有光栅图形的KMPR母版，并制得到PDMS软印章；再利用PDMS软印章制得后续制作纳米通道的光栅纳米尺寸结构Si基底；另取PET片制得具有双层SU‑8光刻胶的PET片材；再将光栅纳米尺寸结构Si基底和具有双层SU‑8光刻胶的PET片材经低压键合制作微纳米流控系统。
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