[发明专利]一种快速计算指纹相似度的方法有效

专利信息
申请号: 201010573101.X 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN101996318A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 吕虹晓;杨波 申请(专利权)人: 杭州晟元芯片技术有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 33101 代理人: 陈继亮
地址: 310012 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种快速计算指纹相似度的方法,构造指纹特征A和指纹特征B的细节点拓扑结构;指纹特征B中的每个拓扑单元在指纹特征A的拓扑结构中搜索相似的拓扑单元,得到相似拓扑单元集合S1;构造指纹特征B中点iB的星形拓扑结构,扩展指纹特征B的拓扑结构;指纹特征B中扩展后的拓扑单元在指纹特征A的拓扑结构中搜索相似的拓扑单元,得到相似拓扑单元集合S2,合并集合S1和S2得到S3;对S3中的拓扑单元进行一致性筛选,得到相似拓扑单元集合S4及相似度S。本发明有益的效果是:通过两个方面来降低非真实匹配特征间的相似度,并提高真实匹配特征间的相似度,增加了相似度计算方法的准确性;通过构造索引表的方法提高了计算速度。
搜索关键词: 一种 快速 计算 指纹 相似 方法
【主权项】:
1.一种快速计算指纹相似度的方法,其特征在于:步骤如下:步骤1、将待比较的两个指纹图像A和B分别通过特征提取装置得到指纹特征A和指纹特征B;步骤2、构造指纹特征A的细节点拓扑结构,对于指纹特征A中的每个细节点i,构造该细节点与其他所有细节点之间的星型拓扑结构,所有的星型拓扑结构组成了指纹特征A的复合型拓扑结构;步骤3、构造指纹特征B的细节点拓扑结构,对于特征B中的每个细节点i,构造该细节点与其后续三个细节点之间的拓扑结构;步骤4、指纹特征B中的每个拓扑单元在指纹特征A的拓扑结构中搜索相似的拓扑单元,得到相似拓扑单元集合S1;指纹特征B中每个点iB的三个拓扑单元CB,在指纹特征A中所有点iA的星型拓扑结构中搜索,比较iA的拓扑单元中的旋转无关属性,若搜索到有拓扑单元CA的旋转无关属性满足条件{lA,αA,βA,tA}-{lB,αB,βB,tB}<T,其中,T为一组给定的数组较小的阈值,T={Tl,Tα,Tβ,Tt},则认为CA和CB为相似拓扑单元,将其加入相似拓扑单元集合S1;统计点iB的三个拓扑单元中,在指纹特征A中找到相似拓扑单元的个数,记录下个数最大的点iB及其对应的点iA;步骤5、构造指纹特征B中点iB的星形拓扑结构,扩展指纹特征B的拓扑结构;步骤6、指纹特征B中扩展后的拓扑单元在指纹特征A的拓扑结构中搜索相似的拓扑单元,得到相似拓扑单元集合S2,即搜索特征B中iB的星形拓扑结构中每个拓扑单元在指纹特征A中iA的星形拓扑结构中搜索相似的拓扑单元,得到相似拓扑单元集合S2,合并集合S1和S2得到S3;步骤7、对S3中的拓扑单元进行一致性筛选,得到相似拓扑单元集合S4;步骤8、根据S4得到相似度,统计S4中相似拓扑单元的个数即相似拓扑单元中旋转无关属性的差异,得到指纹特征A和指纹特征B的相似度S;其中η={lA,αA,βA,tA}-{lB,αB,βB,tB};f(ηk)是一个将ηk规范化到0-1的一个函数;m和n分别是特征A和特征B的细节点个数;q是预先给定的阈值。
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