[发明专利]一种多层全硅发光材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201010574173.6 | 申请日： | 2010-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN102051169A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 黄伟其 | 申请（专利权）人： | 贵州大学 |
| 主分类号： | C09K11/59 | 分类号： | C09K11/59;B32B9/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人： | 程新敏;顾书玲 |
| 地址： | 550003 贵*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多层全硅发光材料，该发光材料是以单晶硅为垫层，在垫层表面依次覆盖有纳晶硅层、非晶硅层和氧化硅层，与现有技术相比，本发明用纳秒激光制备稳定的多层全硅型发光材料，所用的激光束斑以基模为主，可通过光学汇聚系统控制激光束斑线径从一微米到一百微米，加工范围宽；激光脉冲的脉宽控制在60～100纳秒，通过三维微动定位系统可对硅样品实施精确到100nm的定位和扫描加工；用每秒上千个纳秒激光脉冲相干在单晶硅上加工，制备的多层全硅型纳米结构稳定性和重复性好，发光性质有很大的改进，且制备样品的成本低并易于实现大规模产业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多层 发光 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种多层全硅发光材料，其特征在于：该发光材料是以单晶硅为垫层，在垫层表面依次覆盖有纳晶硅层、非晶硅层和氧化硅层。
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