[发明专利]在纯铜或铜合金基体上熔盐电镀厚钨涂层的制备方法有效
申请号: | 201010575369.7 | 申请日: | 2010-12-01 |
公开(公告)号: | CN102002743A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 张迎春;刘艳红;刘其宗;苏晓丽;吴泽双;付宝建;葛昌纯 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C25D3/66 | 分类号: | C25D3/66 |
代理公司: | 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 | 代理人: | 刘淑芬 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种纯铜或铜合金基体表面在熔融盐浴中电镀厚钨涂层的方法,属于表面工程技术领域。工作电极(基体金属)为CuZrCr或无氧铜(OF-Cu)或弥散强化铜合金,对电极(阳极)为纯金属钨片,电极经过表面和干燥处理。熔融盐为Na2WO4-WO3二元体系,按照一定摩尔比称量干燥后混匀加热到熔融状态,连接阴极和阳极,通过设定电流参数和调整电镀时间,获得所需厚度的金属钨涂层。电流采用单向脉冲电流,固定均值电流密度在100~150mA/cm2、脉冲频率10~1000Hz和占空比0.1~0.75,通过调整电镀时间获得所需厚度超过1mm的钨涂层。本发明的优点在于:金属钨涂层致密度高,结合强度高;适用于异型零件;工艺设备简单,操作方便,成本低廉,无污染。 | ||
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【主权项】:
在纯铜或铜合金基体上熔盐电镀厚钨涂层的制备方法,其特征在于:制备方法步骤分为熔融盐的配置、电极表面预处理、电镀、镀件处理四步骤;具体步骤为:a、熔融盐的配置熔融盐成份包括Na2WO4和WO3,各组分含量按摩尔百分比为:Na2WO4∶WO3=5∶2,其中WO3为钨的离子源,Na2WO4为助溶剂;b、电极表面预处理纯铜或铜合金镀件作为阴极,纯金属钨作为阳极;阴极和阳极要经过机械打磨、抛光、超声清洗和干燥处理;镀前对阴极和阳极进行尺寸测量和重量称量;c、电镀将Na2WO4在300℃干燥10~20小时以脱掉结晶水,将WO3在100℃干燥10~20小时;将混合的Na2WO4‑WO3熔融盐以稳定的升温速度升至850℃~920℃形成熔盐,保温至熔盐体系稳定,连接阴极和阳极,接通电源,设定电镀参数,开始施镀;d、镀件处理将电镀完成后的镀件取出,除去镀件上的附着物;得到厚钨涂层材料。
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