[发明专利]一种瑞格列奈的新合成方法无效
申请号: | 201010575831.3 | 申请日: | 2010-12-07 |
公开(公告)号: | CN102002021A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 吴宗好;何勇 | 申请(专利权)人: | 合肥华方医药科技有限公司 |
主分类号: | C07D295/135 | 分类号: | C07D295/135 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种制备瑞格列奈的新方法,以4-羧甲基-2-乙氧基苯甲酸酯为原料,采用混酐法制备活性中间体与(S)-3-甲基-1-[2-(1-哌啶基)苯基]丁胺一锅法得到(S)-2-乙氧基-4-[2-[3-甲基-1-[2-(1-哌啶基)苯基]-丁烷基]-氨基]-2-羰乙基苯甲酸酯,水解得到瑞格列奈。本发明与其它工艺相比,它具有反应条件温和,操作简单,高效,收率高、低毒、环境友好等特点,具有广阔的工业化生产前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 瑞格列奈 合成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备瑞格列奈的新方法,该工艺步骤如下:A、在一定的温度、有机溶剂中、碱、催化剂存在的条件下,将化合物-1采用羧酸-磺酸混合酸酐法、羧酸-磷酸混合酸酐法、羧酸-碳酸混合酸酐法制备成活性酯;B、在A步骤中加入化合物-2,反应制得化合物-3;C、将化合物-3水解,反应完全后,调节pH值得到瑞格列奈。其中:化合物-1为4-羧甲基-2-乙氧基苯甲酸酯,酯中R表示任何一个易于脱保护羧基的保护基;化合物-2为(S)-3-甲基-1-[2-(1-哌啶基)苯基]丁胺;化合物-3为(S)-3-甲基-1-[2-(1-哌啶基)苯基]丁胺得到(S)-2-乙氧基-4-[2-[3-甲基-1-[2-(1-哌啶基)苯基]-丁烷基]-氨基]-2-羰乙基苯甲酸酯;酯中R表示任何一个易于脱保护的羧基保护基。Fig.1.上述化合物的结构式其中R指甲基、乙基、苄基等羧基保护基团。
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