[发明专利]粉末镀膜设备无效
| 申请号： | 201010575912.3 | 申请日： | 2010-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102534520A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 冯彬;张宁;刘大为;王维;李伟;孟凡利 | 申请（专利权）人： | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;B22F1/02 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 许宗富 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种粉末镀膜设备，属于镀膜设备技术领域。包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置，所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、磁控靶、多工位转靶及离子枪，离子枪的离子束通过多工位转靶的靶面反射至样品盘，磁控靶的中心线交于样品盘。本发明拉开粉末相邻颗粒间距离，使之减少颗粒之间的摩擦，避免被镀层被磨掉，使得每个粉末颗粒每个面都能产生朝向靶面或热丝电极的机会，从而实现在粉末颗粒上各个面上镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 粉末 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种粉末镀膜设备，其特征在于：包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置，所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、磁控靶、多工位转靶及离子枪，离子枪的离子束通过多工位转靶的靶面反射至样品盘，磁控靶的中心线交于样品盘。
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