[发明专利]连续式太阳能集热板芯片真空磁控溅射镀膜生产线系统无效
申请号: | 201010576321.8 | 申请日: | 2010-12-07 |
公开(公告)号: | CN101985737A | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
发明(设计)人: | 魏海波;龚肖南 | 申请(专利权)人: | 魏海波;龚肖南 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/56 |
代理公司: | 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 | 代理人: | 于菲 |
地址: | 110034 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种连续式太阳能集热板芯片真空磁控镀膜生产线系统,它包括有上片台、防尘加热室、进片区、镀膜区、出片区、下片台、抽空装置和贯穿整条生产线系统的传动机构,其技术要点是:所述各部件依次连接,抽空系统设置在生产线系统的两侧。本发明采用模块式结构,水平卧式运送整板集热芯片,实现由大气状态到真空镀膜再到大气状态的连续式镀膜生产。它可在大面积整板太阳能芯片上获得理想的光谱选择性涂层,并且膜层均匀、理化性能好、寿命长。本发明还实现了大面积、大批量工业化生产集热板芯片选择性吸收涂层,提高生产效率,降低成本,生产过程中不会产生任何污染。 | ||
搜索关键词: | 连续 太阳能 集热板 芯片 真空 磁控溅射 镀膜 生产线 系统 | ||
【主权项】:
一种连续式太阳能集热板芯片真空磁控镀膜生产线系统,它包括有上片台、防尘加热室、进片区、镀膜区、出片区、下片台、抽空系统和贯穿整条生产线系统的传动机构,其特征是:所述的进片区包括有进片室、进片过渡室和进片缓冲室,镀膜区包括有沉积高反射率金属层镀膜室、沉积金属含量不同的吸收层镀膜室、沉积减反射层镀膜室和沉积保护层镀膜室,出片区包括有出片缓冲室、出片过渡室和出片室,抽空系统设置在进片区、镀膜区和出片区的两侧;所述的上片台、防尘加热室、进片室、进片过渡室、进片缓冲室、沉积高反射率金属层镀膜室、沉积金属含量不同的吸收层镀膜室、沉积减反射层镀膜室、沉积保护层镀膜室、出片缓冲室、出片过渡室、出片室、下片台依次连接。
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