[发明专利]线宽测试结构有效
| 申请号： | 201010578124.X | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102569257A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明关于一种线宽测试结构，其包括当前层及位于当前层下方的前层，前层形成有台阶，其中当前层的光刻图形设计成其中心位于前层的台阶处。本发明利用线宽测试结构的二次电子成像原理，测试线宽的同时测试套刻叠对偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 结构 | ||
【主权项】：
一种线宽测试结构，其包括：当前层及位于当前层下方的前层；其特征在于：前层形成有台阶，其中当前层的光刻图形设计成其中心位于前层的台阶处。
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