[发明专利]光刻版图形位置偏差检查方法无效
| 申请号： | 201010578151.7 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102540735A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 黄玮 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻版图形位置偏差检查方法，其中，包括以下步骤：S100、准备测试圆片；S101、制备基准光刻版；S102、测试基准光刻版上所有套刻标记外框的图形位置偏差；S103、在产品光刻版上放置测试标记内框，各测试标记内框的中心位置必须和基准光刻版上的套刻标记外框位置重合，且测试标记内框只能放置在划片槽中或禁止区域之外；S104、测试圆片涂胶，先使用基准光刻版对位曝光，然后使用产品光刻版对位曝光，二次曝光后显影生成套刻测试图形；S105、测试套刻，并对套刻数据进行修正，得到产品光刻版的图形位置偏差。本发明不使用专用图形位置偏差检测设备，皆可计算出光刻版的图形位置偏差，成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 版图 位置 偏差 检查 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻版图形位置偏差检查方法，其特征在于，包括以下步骤：S100、在圆片上曝光/刻蚀光刻机对位标记，准备测试圆片；S101、制备基准光刻版，光刻版上除光刻版必须的固定标记外，全部放置套刻标记外框；S102、测试基准光刻版上所有套刻标记外框的图形位置偏差；S103、在产品光刻版上放置测试标记内框，各测试标记内框的中心位置必须和基准光刻版上的套刻标记外框位置重合，且测试标记内框只能放置在划片槽中或禁止区域之外；S104、测试圆片涂胶，先使用基准光刻版对位曝光，然后使用产品光刻版对位曝光，二次曝光后显影生成套刻测试图形；S105、测试套刻，再根据S102的数据对套刻数据进行修正，得到产品光刻版的图形位置偏差。
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