[发明专利]一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法

摘要

本发明公开了一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法，包括以下步骤有：1)首先确定获得高对比度莫尔条纹图像对应的折射光栅折射率范围，在该范围内进行光栅材料选择；2)光刻，制作光栅标记掩膜板，并以光栅标记掩膜板为掩护，刻蚀光刻胶层，分别在压印基底和模板上得到光刻胶栅条；3)溅射，在有光刻胶栅线的基板上溅射优化光栅材料；4)剥离，剥离基底上的光刻胶区域得到突起光栅条纹。本发明采用界面光学理论和有限差分计算，优化光栅标记制作材料。该方法从光栅制作材料角度，解决了传统标记由于压印光刻胶的引入带来的莫尔条纹对准图像对比度严重下降的问题，且具有更广的光刻胶适用范围，可以适用于多种常用光刻胶的引入。

主权项

一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：1)光栅材料选择基于莫尔条纹相位匹配的压印光刻对准，通过菲涅尔界面定理和时域有限差分计算，分析莫尔条纹图像对比度与光栅材料折射率的关系，确定获得高对比度莫尔条纹图像对应的折射光栅折射率范围，并在此范围内选定光栅标记材料。在压印中，基底为Si，模板为玻璃的条件下，选用模板光栅材料是折射率接近或等于1.9的材料，基底选用材料为折射率接近或等于2.7的材料；2)光刻制作光栅标记掩膜板，并以光栅标记掩膜板为掩护，刻蚀光刻胶层，分别在压印基底和模板上得到光刻胶栅线；3)溅射在有光刻胶栅线的基板上溅射优化的光栅材料；4)剥离剥离基底上的光刻胶区域得到突起光栅条纹。