[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010583327.8 | 申请日： | 2010-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102096330A | 公开（公告）日： | 2011-06-15 |
| 发明（设计）人： | C·M·鲁普斯;N·R·凯姆皮尔;M·里彭 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述浸没光刻设备包括：流体处理系统，配置成将浸没液体限制到投影系统的最终元件和衬底和/或台之间的局部空间；和气体供给装置，配置成供给气体至邻近所述空间的区域，所述气体在20℃和1atm总压力的情况下在浸没液体中具有大于5×10-3mol/kg的溶解度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种浸没式光刻设备，包括：流体处理系统，配置成将浸没液体限制到投影系统的最终元件和衬底和/或台之间的局部空间；和气体供给装置，配置成供给气体至邻近所述空间的区域，所述气体在20℃和1atm总压力的情况下在浸没液体中具有大于5×10‑3mol/kg的溶解度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010583327.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
