[发明专利]镀膜件及其制备方法有效
| 申请号： | 201010584978.9 | 申请日： | 2010-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN102560339A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;马楠 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种镀膜件及其制备方法。该镀膜件包括金属基体及形成于金属基体表面的硬质层，该硬质层为一氮化铬-氮化硅的复合膜层。该镀膜件的制备方法包括如下步骤：提供一金属基体；采用真空溅镀法在该金属基体上溅镀硬质层，该硬质层为氮化铬-氮化硅的复合膜层；溅镀该硬质层同时开启铬靶和硅靶，以氮气为反应气体，铬靶的电源功率为1-2KW，硅靶的电源功率为10-12KW。所述的镀膜件具有高的硬度、耐磨性及耐腐蚀性。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镀膜件，其包括金属基体及形成于金属基体上的硬质层，其特征在于：所述硬质层为一氮化铬‑氮化硅的复合膜层。
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