[发明专利]双矩阵组合公钥的生成方法无效

专利信息
申请号: 201010591035.9 申请日: 2010-12-15
公开(公告)号: CN102025491A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 南相浩 申请(专利权)人: 北京联合智华微电子科技有限公司
主分类号: H04L9/30 分类号: H04L9/30;H04L9/08
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之;杨明
地址: 100043 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于信息安全技术领域,在基于标识的组合公钥CPK体制基础上,公开了一种抗共谋攻击的双矩阵组合公钥的生成方法,可提高公钥体制的安全性:密钥管理中心定义生成公钥组合矩阵I和公钥组合矩阵II,公钥组合矩阵I产生标识密钥,公钥组合矩阵II产生分割密钥,标识密钥和分割密钥复合产生组合密钥,标识密钥和分割密钥互为加密,隐蔽了私钥之间存在的线性组合关系,消除了共谋可能性,安全性得到了证明。双矩阵构建的组合公钥的主密钥是两个矩阵,比靠一个主密钥保护系统安全的其他系统,更具有抗量子计算攻击的能力。
搜索关键词: 矩阵 组合 生成 方法
【主权项】:
双矩阵组合公钥的生成方法,其特征在于:包括如下步骤:1)密钥管理中心定义生成公钥组合矩阵I和公钥组合矩阵II;2)密钥管理中心通过实体标识,由公钥组合矩阵I产生标识密钥对,由公钥组合矩阵II产生分割密钥对;3)密钥管理中心将标识私钥和分割私钥复合组成组合私钥;4)密钥管理中心将组合私钥分发给用户;5)电子签名依赖方用标识公钥和分割公钥复合生成组合公钥,进行签名验证。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京联合智华微电子科技有限公司,未经北京联合智华微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010591035.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top