[发明专利]可调节倾角挤压基片制作微阶梯反射镜的方法无效
申请号: | 201010592778.8 | 申请日: | 2010-12-17 |
公开(公告)号: | CN102081180A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 梁中翥;梁静秋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08;G03F7/00;G02B1/10 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 王淑秋 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种可调节倾角挤压基片制作微阶梯反射镜的方法,该方法包括如下步骤:对N+1片长方体基片进行研磨并抛光;将制作的标准块置于第一基底的一端,将平放基片放在第一基底上;将下表面上制备有金属刻度线的第二基底的一端放置在标准块与第一基底的接触夹角处,另一端悬在平放基片的上方;调整微调节架使平放基片与标准块之间的距离符合设定要求;将剩余的基片依次叠放在第二基底上并压紧;向标准块的方向挤压各基片的同时向下挤压各基片形成阶梯结构,将各基片粘接固定;在阶梯结构的上表面沉积增反膜层和保护膜层。本发明有效地提高了阶梯表面粗糙度的控制精度、纵向尺寸精度,工艺可控性强,重复性好。 | ||
搜索关键词: | 调节 倾角 挤压 制作 阶梯 反射 方法 | ||
【主权项】:
一种可调节倾角挤压基片制作微阶梯反射镜的方法,其特征在于包括如下步骤:(一)、选用N+1片可加工固体材料作为微阶梯反射镜的基片,并对其进行清洗处理;(二)、对各基片的左侧面(21)和右侧面(22)进行研磨并抛光,使其表面粗糙度达到0.1nm~1μm,左侧面(21)平行于右侧面(22),并且各基片的厚度达到设定的相同尺寸;然后对各基片进行清洗处理;(三)、将N+1片研磨完成的基片依次叠放,使各基片的右侧面(22)与相邻基片的左侧面(21)面接触,叠放后各基片的上表面(23)共面、下表面(24)共面;然后用固化胶将叠放后的各基片粘接固定在一起;(四)、将粘接固定在一起的基片置于研磨台上,研磨各基片的上表面(23),使其表面粗糙度达到0.1nm~1μm,面形达到0.1~10nm;并且各基片的上表面(23)垂直于其左侧面(21)和右侧面(22);然后用去胶溶液去除固化胶,清洗基片;(五)、研磨并抛光两片长方体作为调节倾角的第一基底(31)和第二基底(32),使第一基底(31)的上表面(311)和第二基底(32)的上表面(321)、下表面(322)、左侧面(323)的表面粗糙度达到0.1nm~1μm,,并且第二基底(32)的上表面(321)平行于下表面(322),左侧面(323)垂直于其上表面(321);清洗第一基底(31)和第二基底(32);(六)、在第二基底(32)的下表面(322)上采用磁控溅射或射频溅射或离子束溅射或直流溅射或电子束蒸发或热蒸发方法蒸镀或溅射设定厚度的金属膜,然后涂光刻胶、掩模曝光、显影,形成设定宽度的等间距胶线条;在酸溶液中腐蚀掉未被光刻胶覆盖的金属膜,然后去胶,形成平行于第二基底(32)左侧面(323)的金属刻度线;(七)、研磨并抛光一块长方体作为固定在第一基底(31)上的标准块(1),标准块(1)的右侧面(12)和下表面(13)的表面粗糙度达到0.1nm~1μm,并且标准块(1)的右侧面(12)垂直于下表面(13);清洗标准块(1);(八)、将在步骤(七)中制作完成的标准块(1)置于第一基底(31)的一端,使标准块(1)的下表面(13)与第一基底(31)的上表面(311)共面接触并粘接固定;(九)、将步骤(四)制作完成的N+1片基片中的其中一片基片(20)平放在第一基底(31)上,使该平放基片(20)的右侧面(22)与第一基底(31)的上表面(311)面接触;将第二基底(32)的一端放置在标准块(1)与第一基底(31)的接触夹角处,另一端悬在平放基片(20)的上方;根据微阶梯反射镜的阶梯结构尺寸计算平放基片(20)的上表面(23),与标准块(1)的右侧面(12)之间的设定距离,并找到与该设定距离对应的第二基底(32)上的相应金属刻度线;通过固定在第一基底(31)上的微调节架(7)调节平放基片(20)的位置,使平放基片(20)与第二基底(32)之间的接触线对准上述相应金属刻度线;调节好后将第二基底(32)和平放基片(20)之间的相对位置固定;(十)、将剩余的N片基片依次叠放在第二基底(32)上并压紧,使各基片的右侧面(22)与相邻基片的左侧面(21)面接触;向标准块(1)的方向挤压各基片的同时用质量块(64)向下挤压各基片,待N个台阶面形成之后,用固化胶将各基片粘接固定,形成阶梯结构;(十一)、在步骤(十)得到的阶梯结构的上表面沉积增反膜层和保护膜层。
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