[发明专利]一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用有效
| 申请号： | 201010593331.2 | 申请日： | 2010-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN102127372A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | 张楷亮;尹立国;王芳;韦晓莹;苗银萍 | 申请（专利权）人： | 天津理工大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L45/00;B82Y40/00;B01F17/42;B01D19/04;A01N43/80;A01P3/00 |
| 代理公司： | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人： | 侯力 |
| 地址： | 300384 天津市南*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂组成，纳米研磨料为氧化锆、氧化钛、氧化钸或二氧化硅，pH调节剂包括无机碱为KOH和有机碱四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵或羟基胺，表面活性剂为硅烷聚二乙醇醚、聚二乙醇醚或十二烷基乙二醇醚，消泡剂为聚二甲基硅烷，杀菌剂为异构噻唑啉酮，助清洗剂为异丙醇；溶剂为去离子水。本发明的优点是：抛光速率稳定可控、损伤少、易清洗、不腐蚀设备、不污染环境、储存时间长。利用该抛光液对氧化钒薄膜材料进行化学机械抛光来制备阻变存储器，方法简单易行，而且与集成电路工艺完全兼容。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 氧化 化学 机械抛光 纳米 抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液，其特征在于：由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂组成，各组分占抛光液总量的含量分别是：纳米研磨料为1.0wt％‑20.0wt％、pH调节剂加入量是使纳米抛光液pH值为8～12、表面活性剂为0.01wt％‑1.0wt％、消泡剂为20‑200ppm、杀菌剂为10‑50ppm、助清洗剂为0.01wt％‑0.1wt％、余量为溶剂。
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