[发明专利]一种制备含硫镍材料的方法无效
| 申请号： | 201010595789.1 | 申请日： | 2010-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN102071441A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 江垚;贺跃辉;吝楠;张端锋 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | C25D3/12 | 分类号： | C25D3/12;C25D21/14 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人： | 颜勇 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 一种含硫镍材料的制备方法，是在含镍电镀液的电镀体系中，将含硫化合物溶液滴入电镀液中阴极板附近；含硫化合物与电镀液中的镍离子按式S2-+Ni2+→NiS↓直接一步反应：在阴极板上，NiS化学沉积与镍的电沉积同时进行，制备出含硫镍材料。反应产物NiS沉积在阴极上；同时，在电镀过程中镍在电场作用下在阴极上不断的电沉积，即NiS的化学沉积与镍的电沉积同时进行，从而制备出含硫镍材料。本发明工艺简单、操作方便，通过选择新的含S化合物硫源，采用硫的化学沉积和镍的电沉积的共沉积方式制备含硫镍材料，有利于控制含硫镍材料的硫含量，解决了当前含硫镍材料的难制备以及含硫量难以控制的问题，产品质量稳定，工艺流程短，可实现规模化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 含硫镍 材料 方法 | ||
【主权项】：
一种含硫镍材料的制备方法，其特征在于：在含镍电镀液的电镀体系中，将含硫化合物溶液滴入电镀液中阴极板附近；在阴极板上，NiS化学沉积与镍的电沉积同时进行，制备出含硫镍材料。
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