[发明专利]一种高光高韧抗划痕模塑组合物无效
| 申请号： | 201010597570.5 | 申请日： | 2010-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN102002206A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 邹华维;梁梅;陈洋;罗文洲;刘鹏波 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | C08L55/02 | 分类号： | C08L55/02;C08L25/12;C08L33/12;C08L69/00;C08L25/14;C08L51/04 |
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| 地址： | 610065 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种高光高韧抗划痕模塑组合物，该组合物由至少两种具有特定橡胶相粒径、橡胶含量和熔体流动特性的丙烯腈-丁二烯-苯乙烯接枝共聚物，特定熔体流动特性的丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、丙烯腈-苯乙烯-丙烯酸酯共聚物中的至少一种，具有核壳结构的聚甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯共聚物，油溶性染料体系以及抗氧剂体系构成，其模塑制品具有优异的抗冲击韧性、改善的表面高光泽和适宜的抗划痕效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高光高韧抗 划痕 组合 | ||
【主权项】：
一种高光高韧抗划痕模塑组合物，该组合物包含：a) 丙烯腈‑丁二烯‑苯乙烯接枝共聚物（A）b)丙烯腈‑丁二烯‑苯乙烯接枝共聚物（B）c) 丙烯腈‑苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、丙烯腈‑苯乙烯‑丙烯酸酯共聚物中的至少一种（C）d) 以聚丁二烯单元为核、苯乙烯和甲基丙烯酸甲酯聚合物单元构成壳层的具有核壳结构的聚甲基丙烯酸甲酯‑丁二烯‑苯乙烯共聚物（D）e) 染料体系f) 抗氧剂体系。
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