[发明专利]薄膜图案的沉积装置与方法有效
| 申请号： | 201010597850.6 | 申请日： | 2010-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN102485937A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 王仪龙;柯明贤;张均豪;庄传胜 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种薄膜图案的沉积装置与方法。薄膜图案的沉积装置具有冷却背板、固定于冷却背板下的中介层板、以及位于中介层板下的掩模。中介层板具有高导热系数图案对应掩模的开口，以及低导热系数图案对应掩模。如此一来，可避免在沉积制作工艺中沉积过厚的薄膜于掩模上，可延长掩模寿命并降低制作工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 图案 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜图案的沉积装置，包括：冷却背板；中介层板，固定于该冷却背板下方，其中该中介层板具有一低导热系数图案，以及与该低导热系数图案对比的一高导热系数图案；掩模，位于该中介层板下方，该掩模具有一开口对应该高导热系数图案；以及沉积薄膜元件，位于该掩模下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院，未经财团法人工业技术研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010597850.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
