[发明专利]测量光刻设备中动态定位误差的性质的方法、数据处理设备以及计算机程序产品有效

专利信息
申请号: 201010597897.2 申请日: 2010-12-16
公开(公告)号: CN102103330A 公开(公告)日: 2011-06-22
发明(设计)人: F·斯塔尔斯;H·范德兰;S·G·K·麦格纳森;H·巴特勒 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种测量光刻设备中动态定位误差的性质的方法、数据处理设备以及计算机程序产品。光刻设备通过相对于彼此以一系列的移动来移动衬底和图案形成装置使得图案被施加到衬底上的期望位置上而操作。移动固有地包括在一个或多个轴线上的引起在被施加的图案中可以测量的相应的误差的动态定位误差。测试方法包括人为地在不同的特定频率和轴线上注入相对大的动态定位误差。测量不同频率和跨过给定轴线感兴趣的频带的注入的误差的振幅时的图案中的误差中的变化量。使用测量和注入的频率的已知条件的计算允许分析在与每次误差频率相关的频带中动态定位误差变化量。在计算中基于图案形成操作的参数和注入的和测量的轴线之间的关系应用相关函数。
搜索关键词: 测量 光刻 设备 动态 定位 误差 性质 方法 数据处理 以及 计算机 程序 产品
【主权项】:
一种测量光刻设备中动态定位误差的性质的方法,所述光刻设备布置成将图案从图案形成装置转移到衬底上,所述光刻设备包括:图案形成子系统,用于容纳所述图案形成装置并将所述图案施加到保持在图案形成位置处的所述衬底的一部分;衬底支撑结构,用于在施加所述图案时保持所述衬底;和定位系统,用于移动所述衬底支撑结构,所述图案形成子系统和所述图案形成装置相对于彼此进行一系列的移动,使得所述图案被施加在所述衬底上的期望的位置,所述一系列的移动固有地包括在一个或多个轴线上的动态定位误差,所述动态定位误差引起在所施加的图案中能够被测量的对应的误差,所述方法包括步骤:操作图案形成子系统和定位系统,同时注入具有已知频率组成的动态定位误差,所述注入的误差的特性被控制成使得在操作期间的不同时刻、就一个或多个特征而言是不同的;直接地或间接地测量在与操作的每个不同时刻相关联的所述图案形成误差中的变化量;和根据测量的图案形成误差变化量和相关联的注入的误差的已知的特征,计算在与所述注入的误差的已知频率组成相关的频率带中固有的动态定位误差的至少一种性质。
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