[发明专利]具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体有效
| 申请号： | 201010597923.1 | 申请日： | 2010-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102156388A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | J·马奎因;H·维图赛克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有改进的用于等离子体清洁处理的适应性的物体。所述物体包括：第一外表面区域；第二外表面区域，其中所述物体构造并布置成与可去除盖协同操作使得所述盖可连接至所述物体以覆盖所述第二外表面区域，且其中与所述可去除盖连接的所述物体适于在等离子体清洁装置内被清洁，使得所述等离子体清洁装置不暴露给存在于第二外表面区域的颗粒，和其中所述第一外表面区域在等离子体清洁装置内被清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改进 用于 等离子体 清洁 处理 适应性 物体 | ||
【主权项】：
一种适于在等离子体清洁装置中进行等离子体清洁处理的物体，所述物体包括：第一外表面区域；第二外表面区域，其中所述物体构造并布置成与可去除盖协同操作，使得所述盖可连接至所述物体以覆盖所述第二外表面区域，和其中与所述可去除盖连接的所述物体适于在等离子体清洁装置内被清洁，使得所述等离子体清洁装置不暴露给存在于第二外表面区域上的颗粒，和其中所述第一外表面区域在等离子体清洁装置内被清洁。
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