[发明专利]高纯钽中痕量杂质的测定方法有效
| 申请号： | 201010597964.0 | 申请日： | 2010-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN102565206A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 李艳芬;童坚;刘英;张卓;佟伶;李满芝 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | G01N30/02 | 分类号： | G01N30/02;G01N30/86 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 耿小强 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高纯钽中多个痕量杂质的测定方法，其步骤包括(1)配制钽样品溶液，其中钽样品含量为1～5g/L，HF为1～5vol％，硝酸为0.3～0.8vol％；(2)连接离子色谱、膜去溶装置和ICP-MS三装置，将制备好的样品溶液由浓缩泵泵入离子色谱的阳离子交换柱5分钟，杂质元素形成的阳离子吸附在交换柱，而基体钽形成的TaF72-或TaOF52-流经柱子不上柱，用氢氟酸淋洗交换柱，将柱子上残留的基体淋洗干净，启动联机工作程序，用硝酸洗脱吸附在阳离子交换柱(磺酸型阳离子交换柱)上的杂质，随同试样做空白试验。本方法干扰少、精度好，并且能满足多个痕量杂质的同时检测，避免了多次操作引入的误差。 | ||
| 搜索关键词： | 高纯 痕量 杂质 测定 方法 | ||
【主权项】：
一种高纯钽中多个痕量杂质的测定方法，其步骤如下：(1)配制钽样品溶液，其中钽样品含量为1～5g/L，HF为1～5vol％，硝酸为0.3～0.8vol％；(2)连接离子色谱、膜去溶装置和ICP‑MS三装置，将制备好的样品溶液100ml由浓缩泵泵入离子色谱的阳离子交换柱5min，杂质元素形成的阳离子吸附在交换柱，而基体钽形成的TaF72‑或TaOF52‑流经柱子不上柱，用氢氟酸淋洗交换柱，将柱子上残留的基体淋洗干净，启动联机工作程序，用硝酸洗脱吸附在阳离子交换柱上的杂质，随同试样做空白试验。
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