[发明专利]在碲化镉、碲锌镉和碲锰镉上化学镀金铂合金电极的方法无效
申请号: | 201010598631.X | 申请日: | 2010-12-16 |
公开(公告)号: | CN102140632A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 |
发明(设计)人: | 介万奇;何亦辉;徐亚东;王涛;查钢强 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42;C23C18/16 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 黄毅新 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了在碲化镉、碲锌镉和碲锰镉上化学镀金铂合金电极的方法,用于解决现有的化学镀方法制备电极时结合力差的技术问题。技术方案是利用氯金酸(HAuCl4·4H2O)和氯铂酸(H2PtCl6·6H2O)溶液的化学镀工艺和半导体光刻工艺,在CdTe、Cd1-xZnxTe和Cd1-xMnxTe(0<x<1)半导体晶片表面制备金铂合金(AuyPt1-y,0<y<1)电极,提高了CdTe、Cd1-xZnxTe和Cd1-xMnxTe(0<x<1)半导体晶片与金铂合金电极的结合力,得到了致密性好,与基底结合牢固,与外电路连接过程中无剥落现象,电学性能优良的金铂合金电极。 | ||
搜索关键词: | 碲化镉 碲锌镉 碲锰镉上 化学 镀金 合金 电极 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在碲化镉、碲锌镉和碲锰镉上化学镀金铂合金电极的方法,其特征在于包括以下步骤:(a)选取阻抗ρ>108Ω·cm的CdTe、阻抗ρ>109Ω·cm的Cd1-xZnxTe和阻抗ρ>109Ω·cm的Cd1-xMnxTe(0<x<1)晶片,进行机械抛光,之后在丙酮溶液中超声清洗;(b)用半导体光刻工艺在晶片表面制备出所需的电极式样,对不需要镀电极的晶片表面涂胶保护;(c)配制氯金酸和氯铂酸溶液浓度分别为Ag/L和Bg/L,用移液器分别取氯金酸和氯铂酸溶液V1L和V2L,其中,
y为金铂合金电极中Au的相对原子含量,MA和MB分别为氯金酸和氯铂酸的相对分子质量。之后用去离子水稀释,缓慢加热至40~60℃,并用稀盐酸调节pH为4~6;(d)将经步骤(b)处理的晶片全部浸入到步骤(c)配制的溶液中,保持40~60℃不变,缓慢搅动溶液并保持3~5min,在晶片表面会得到100至200nm厚的光亮的金属薄膜,取出后立即放入去离子水中清洗,氮气吹干;(e)将步骤(d)得到的晶片浸入丙酮中,溶解掉保护的光刻胶,并用去离子水清洗数次,氮气吹干。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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