[发明专利]冷壁间歇式反应器无效
申请号: | 201010599153.4 | 申请日: | 2010-12-22 |
公开(公告)号: | CN102094183A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 张占文;黄勇;梅鲁生;李波;陈素芬;漆小波;魏胜;刘一杨 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/44 |
代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 翟长明;韩志英 |
地址: | 621900 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供了一种冷壁间歇式反应器,含有反应腔体和与之相连接的气路和水冷系统。反应腔体为双层结构,内层为反应腔,外层为水冷套。样品加热控温座由反应腔体底部伸入反应腔内,其上设有一个凹形样品平台,反应腔设有进气和出气端,进气端通过一个四通和三个阀门分别与真空泵、氢气源、二氧化碳气源相连接,用于反应腔的抽真空和工作气体的引入。出气端通过一个四通分为三路:分别是通过一个阀门直接通入室外的排气管、接有一个安全爆破阀再通入室外的排气管和通过配接端口连接一个测量反应腔内压力的传感器。它们分别用以反应腔气体的排放和腔内压力过高的保护性排放以及腔内压力的测量。本发明适用于超临界状态下的还原反应,制备出金属薄膜。 | ||
搜索关键词: | 间歇 反应器 | ||
【主权项】:
冷壁间歇式反应器,其特征在于:所述的反应器含有反应腔体和与之相连接的气路和水冷系统;反应腔体包含反应腔、样品加热控温座、竖直视镜窗、左视镜窗和右进料口;反应腔体为水平的空心圆柱体双层结构,内层空心圆柱体为反应腔(14),反应腔(14)设置有进气端口(7)和出气端口(8);壁上设有水冷套夹层(1)并配上进出水端口;左端为左视镜窗(2),右端为进料口(3),样品加热控温座(4)由反应腔体底部伸入反应腔内,样品加热控温座(4)上端设有一凹形的样品平台(5),在样品平台(5)的正上方设有竖直视镜窗(6);水冷套夹层(1)进出水端口与油浴装置连接;左视镜窗(2)采用螺纹压头(17)配合橡胶垫圈将石英玻璃(20)固定;竖直视镜窗(6)采用螺纹压头(23)配合橡胶垫圈将石英玻璃(26)固定;进料口(3)通过螺纹压头(21)将密封块(22)与反应腔(14)封密;样品加热控温座(4)以一空心的金属圆柱体(9)作为骨架,加热丝(10)环绕在一根竖直的空心瓷管(11)上,加热丝(10)一端与金属圆柱体(9)的内壁相连,一端通过引线由样品加热控温座(4)下端引出;温度传感器(12)通过空心瓷管(11)的中空部分穿过与凹形的样品平台(5)的底面接触,引线由样品加热控温座(4)下端引出,内部通过耐高温胶胶合形成一个实心的整体;密封圈(29)紧套在样品加热控温座(4)外壳上,穿过固定座(27)内置孔(31),通过隔热环套(30)和固定螺帽(28)将加热控温座(4)固定在固定座(27)上;样品加热控温座(4)的引出线与它所配接的温度测控仪连接;所述的进气端口(7)通过一个四通和三个阀门分别与真空泵(13)、氢气源、二氧化碳气源相连接,氢气源是指通过质量流量计(32)和氢气减压阀(33)与氢气瓶(34)相连接,二氧化碳气源是指通过二氧化碳增压器(36)配备压力传感器(35)和一个阀门与二氧化碳气瓶(37)相连接,所述的出气端口(8)通过一个四通分为三路:分别是通过一个阀门直接通入室外的排气管、接有一个安全爆破阀(15)再通入室外的排气管和通过配接端口连接一个压力传感器(16)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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