[发明专利]一种单晶炉热场结构无效
| 申请号： | 201010601189.1 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102011180A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 刘文涛;王先进;孟召标;李娟;李利培;陈双;乔晓东 | 申请（专利权）人： | 浙江昱辉阳光能源有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/14 | 分类号： | C30B15/14 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 314117 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种单晶炉热场结构，所述单晶炉侧壁上部的保温层厚度为60毫米至200毫米；所述单晶炉的炉底保温层厚度为100毫米至400毫米。本实施例提供的单晶炉热场结构通过增加侧壁和炉底保温层的厚度，相对比于现有技术中的单晶炉热场结构，可以减少单晶拉制过程中的热量散失，从而能够降低能耗，该方案无需改动成本昂贵的热屏，可以在保证晶体质量和生产效率的前提下，可以降低单晶炉功率5％至20％，因此能够有效的降低单晶拉制成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶炉热场 结构 | ||
【主权项】：
一种单晶炉热场结构，其特征在于：所述单晶炉侧壁上部的保温层厚度为60毫米至200毫米；所述单晶炉的炉底保温层厚度为100毫米至400毫米。
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