[发明专利]硅料清洗剂及硅料清洗的方法有效
申请号: | 201010602413.9 | 申请日: | 2010-12-23 |
公开(公告)号: | CN102010797A | 公开(公告)日: | 2011-04-13 |
发明(设计)人: | 张群社;赵可武;李淑丽;王彦利 | 申请(专利权)人: | 西安隆基硅材料股份有限公司;宁夏隆基硅材料有限公司;银川隆基硅材料有限公司;无锡隆基硅材料有限公司 |
主分类号: | C11D1/825 | 分类号: | C11D1/825;C11D3/20;C11D3/24;C11D1/83;C11D3/30;C11D3/04;C11D3/60;C11D7/26;B08B3/08;B08B3/12 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 罗笛 |
地址: | 710100 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了清洗剂SEH-1、清洗剂SEH-2、清洗剂SEH-3的组方,所述的清洗剂SEH-1由以下组分按质量份组成:脂肪醇聚氧乙烯醚为5-25;烷基酚聚氧乙烯醚为3-15;烷基醇酰胺为2-8;乙二醇烷基醚为0.5-7;螯合剂为0.1-5;含氯酸为5-10;H2O2为0.5-5;去离子水为余量,总份数为100;所述的清洗剂SEH-2由以下组分按质量份组成:椰子油烷基酰胺磷酸酯为4-15;三乙醇胺油酸皂为3-15;三乙醇胺为1-5;氨基三乙酸为0.1-5;氢氧化钾为1-5;去离子水为余量,总份数为100;所述的清洗剂SEH-3由以下组分按质量份组成:醋酸为5-10;柠檬酸为0.5-10;山梨醇为0.1-5;去离子水为余量,总份数为100。本发明还公开了利用上述三种清洗剂对硅料的清洗方法。本发明的方法完全符合制作太阳能级单晶硅的清洁要求,不污染环境。 | ||
搜索关键词: | 硅料清 洗剂 清洗 方法 | ||
【主权项】:
一种硅料清洗剂,其特征在于:由以下组分按质量份组成:脂肪醇聚氧乙烯醚为5‑25;烷基酚聚氧乙烯醚为3‑15;烷基醇酰胺为2‑8;乙二醇烷基醚为0.5‑7;螯合剂为0.1‑5;含氯酸为5‑10;H2O2为0.5‑5;余量为去离子水,总份数为100。
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