[发明专利]一种新型的氧化锆陶瓷印章及雕刻方法无效

专利信息
申请号: 201010603792.3 申请日: 2010-12-24
公开(公告)号: CN102531586A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 杨金龙;王亚利 申请(专利权)人: 上海天瓷新材料科技有限公司
主分类号: C04B35/48 分类号: C04B35/48;C04B41/91;B41K1/02
代理公司: 上海世贸专利代理有限责任公司 31128 代理人: 叶克英
地址: 201802 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种新型的氧化锆陶瓷印章及雕刻方法。该氧化锆陶瓷印章是首先采用凝胶注模成型制备坯体,再用激光束对氧化锆陶瓷印章的加工面进行刻蚀,所使用的激光器为CO2、YAG、绿激光器。其特征在于:在激光进行刻蚀时,用压缩空气对加工激光束的烧蚀部位进行吹扫。本发明提出的氧化锆陶瓷印章耐磨损,硬度高,使用寿命长,韧性良好。
搜索关键词: 一种 新型 氧化锆 陶瓷 印章 雕刻 方法
【主权项】:
一种四方氧化锆陶瓷印章,其特征为采用3‑8mol%氧化钇稳定的四方氧化锆多晶体。
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